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摩方精密3D打印是科研級3D打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新，為客戶提供好的3D打印服務(wù)體驗。

器官芯片3d打印，毛細(xì)血管器官芯片，整體結(jié)構(gòu)尺寸為18 mm(L)x10 mm(W)x5 mm(H)，結(jié)構(gòu)內(nèi)部共5層流道，每層有14行平行通道（尺寸為25μm），且每條通道上均有間隔300 μm的梯形...

高精度微納3D打印系統(tǒng)采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。

科研3D打印機(jī)是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超...

10微米高精度微納3D打印系統(tǒng)是科研級和工業(yè)級3D打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

nanoArch S140 10μm精度微納3D打印系統(tǒng)是可以實(shí)現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo...

nanoArch P150 25μm高精密3D打印系統(tǒng)是科研級3D打印系統(tǒng)，擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚，具備優(yōu)良的光源穩(wěn)定性，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

微流控芯片3D打印采用面投影微立體光刻（PμSL）技術(shù)和數(shù)字微流控芯片，具備2-25微米光學(xué)精度加工能力，支持光敏樹脂、透明樹脂、水凝膠、PDMS等材料。具備優(yōu)良的光源穩(wěn)定性，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用...

nanoArch P140 10μm精度微納3D打印系統(tǒng)是科研級3D打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)...

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithog...

microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統(tǒng)基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL）構(gòu)建，并融入了摩方自主開發(fā)的多項技術(shù)。摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術(shù)，這...

微納陶瓷3D打印，采用光固化DLP技術(shù)，支持氧化鋁、氧化鋯、陶瓷前驅(qū)體等陶瓷漿料打印，能實(shí)現(xiàn)蜂窩狀陶瓷載體、分級多孔陶瓷支架、多通道微反應(yīng)器等復(fù)雜結(jié)構(gòu)一體成型，可用于半導(dǎo)體封裝、5G/6G通信濾波器等...